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  • #24. 식각 공정 재료 관련 기업 정리
    반도체/기업분석

    식각 공정 재료 관련 기업

    다음은 반도체 식각 공정에 사용하는 재료 관련 사업을 하고 있는 국내 기업 리스트

     

    기업명 관련 제품 기업 개요
    오션브릿지 - CF4, HBr - 2012년 3월에 설립되어, 반도체 공정용 화학재료와 반도체 FAB 설비 장비 생산 및 반도체 제조 공정용 화학제품을 생산하며 공급함. 
    - 주력 제품으로는 HCDS(절연막)와 TiCl4(축전지, 전극물질) 등 케미칼 소재와 특수가스 (Si2H6, CF4, HBr, GeH4) 보유하고 있으며, 주 고객사는 SK하이닉스임. 
    - 반도체 증착공정에 적용되는 HCDS와 Low-K 프리커서, 특수가스인 디실란(Si2H6)을 제조함.
    네패스 - Metal Etchant - 동사는 반도체 및 전자관련 부품, 전자재료 및 화학제품 제조, 판매를 영위할 목적으로 1990년 12월 27일에 설립된 이후, 1999년 12월 14일 코스닥시장에 상장됨. 
    - 동사는 반도체 및 전자관련 부품, 재료 및 화학제품 제조, 판매업을 함. 
    - 동사의 사업분야는 시스템 반도체 첨단 공정(WLP, FOWLP/PLP) 서비스가 주력인 반도체사업과 전자재료사업으로 구분됨.
    SK머티리얼즈 - 식각용 가스 - 동사는 1982년 11월에 대백물산 주식회사로 설립되어 1998년 상호를 대백신소재로 변경하였고, 1999년 12월 코스닥시장에 상장된 후 세 차례의 상호 변경 후 SK머티리얼즈가 됨. 
    - 동사는 반도체, 디스플레이, 태양광 전지 제조 공정에 사용하는 특수가스(NF3, WF6, SiH4 등)의 제조, 판매를 주요 사업으로 하고 있음. 
    - 주요종속회사인 SK에어가스(주)는 산업용, 의료용 가스 등의 제조, 판매하고있음.
    후성 - C4F6, CH2F2, CHF3 - 동사는 2006년 11월 23일에 설립되었으며, 2006년 12월 22일 한국거래소 유가증권시장에 상장됨. 
    - 동사는 냉매가스, 반도체용 특수가스, 2차전지 전해질 소재 'LiPF6' 를 국내에서 유일하게 전문적으로 제조, 판매하는 업체이며, 국내 및 해외 법인을 통해 해당 사업을 영위함. 
    - 동사는 '후성폴란드유한회사'를 신규연결 하여 총 4개의 연결대상 종속회사를 가지고 있음. 동사는 기업집단 '후성그룹'에 속해 있는 기업임.
    이엔에프테크놀로지 - Ethant(50% HF, BOE, HSN) - 2009년 5월 28일 코스닥시장에 신규상장함. 
    - 동사는 국내 포토레지스트용 핵심원료를 생산하는 기업이며, 삼성전자 등 주요 반도체 제조사의 포토레지스트의 사용량 증가에 따라 핵심원료의 시장규모도 대폭 확대되고 있음. 
    - 동사는 2010년 6월에 중국 진출을 목적으로 홍콩에 ENF China Holdings(지분율 90.00%)를 설립했음. 2018년 6월 미국 진출을 위해 ENF USA HOLDINGS(지분율 100%)을 설립함.
    원익머트리얼즈 - Etching 공정용 특수가스 - 2006년 12월 1일을 기준 원익홀딩스의 특수가스사업부문을 물적분할 설립함. 
    - 지배대상기업은 반도체용 특수가스, 일반산업용 가스 및 전구체(프리커서)의 충전, 제조, 정제 및 판매 등을 영위하고 있음. 
    - 동사가 영위하는 전자재료용 특수가스의 수요분야는 삼성전자 및 SK하이닉스 등의 종합반도체 회사를 중심으로, 삼성디스플레이, 동우화인켐 등 디스플레이 및 LED 제조회사로 분류할 수 있음.
    엘티씨 - Polymer Remover - 동사는 2007년 11월 23일에 설립되었으며, 2013년 10월 8일 한국거래소 코스닥시장에 주식을 상장함. 
    - 동사는 디스플레이나 반도체 제조 공정에 사용되는 공정소재(Process Chemical) 중 하나인 박리액 개발 및 제조를 주력사업으로 진행하고 있음. 
    - 신규로 추진하고자 하는 사업은 유기 소재 및 나노 세라믹 소재 개발, 판매로 이를 양산하는 연구개발을 진행 중임.
    램테크놀러지 - BOE
      (Buffered Oxide Etchant)
    - Nitride Strip : H3PO4
    - Cu Stripper
    - 동사는 2001년 10월에 설립되어, 반도체용 식각액, 박리액 및 기타 IT 분야 화학소재 등 전방 산업별 핵심 공정 중 사용되는 프로세스 케미컬 제조사업을 주력으로 하고 있음. 
    - 반도체를 시작으로 디스플레이, LCD, OLED, 2차전지, 태양전지 분야 화학 약품 공급으로 사업을 확장해 왔으며, SK하이닉스, 삼성SDI, 매그나칩, ELK 등 고객사에 공급함. 
    - 매출구성은 식각액 40%, HYCL폼이 21%로 이루어져 있음.
    천보 - Oxalic acid dihydrate - 동사는 2007년 10월 8일에 설립되었으며, 전자소재, 이차전지 전해질 등의 개발, 제조 및 판매를 주요사업으로 하고 있음. 
    - 동사의 사업분야는 크게 전자소재(LCD식각액첨가제, OLED소재, 반도체공정 소재 등), 2차전지 소재(전해질, 전해액첨가제), 의약품 소재(의약품중간체), 정밀화학 소재임. 
    - OLED 부문에서 동사는 3원색 중 적색(R) 발광재료 등의 중간체 및 완제품을 생산하고 있음.
    솔브레인 - HSN/H3PO4, Poly/PAN/SPIN etchant, S-2, HNPA-1317, FMA-2P, HF/BOE - 동사는 인적분할로 설립된 신설회사로 2020년 8월 재상장하였으며 분할 전 회사인 솔브레인홀딩스의 사업 중 반도체 및 전자 관련 화학재료 제조 및 판매 사업부문을 영위하고 있음. 
    - 삼성전자, SK하이닉스, LG디스플레이 등 국내 반도체 및 디스플레이 제조사에 공정용 화학 재료 등을 안정적으로 공급. 
    - 해외시장 진출을 위하여 중국에 반도체 공정재료 생산 및 판매를 위한 현지법인인 솔브레인(시안)전자재료유한공사 설립함.

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